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フォトリソグラフィ材料

品名

化学分子式

カス

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1-イソプロピルシクロペンチルメチルアクリレート

C12H20O2

1149760-04-2

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1-イソプロピル-1-シクロヘキサノールメタクリレート

C13H22O2

811440-77-4

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メタクリル酸2-オキソ-2-[(5-オキソ-4-オキサトリシクロ[4.2.1.03,7]ノナン-2-イル)オキシ]エチルエステル

C14H16O6

347886-81-1

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1-エチルシクロヘキシルメチルアクリレート

C12H20O2

274248-09-8

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1-エチルプロペン酸シクロヘキシルエステル

C11H18O2

251909-25-8

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1-メチルシクロペンチルメタクリレート

C10H16O2

178889-45-7

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1-エチルシクロペンチルメチルアクリレート

C11H18O2

266308-58-1

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3-メタクリル酸エステル-4-ブチロラクトン

C8H10O4

130224-95-2

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2-カルボニル-テトラヒドロフラン-3-ヒドロキシメチルアクリレート

C8H10O4

195000-66-9

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オクタンジアミド、N1,N8-ビス(4-アミノフェニル)-

C20H26N4O2

735328-00-4

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ビス(シクロヘキシルスルホニル)ジアゾメタン

C13H22N2O4S2

138529-81-4

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2,6-ビス(4-アゾヒドロキシメチルベンジリデン)-4-メチルシクロヘキサノン

C21H18N6O

5284-79-7

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MPI-PFBS（ビス(4-tert-ブチルフェニル)ヨウ素オクタフロロブタンスルホン酸塩）

C20H26I.C4F9O3S

194999-85-4

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TPS-PFBS（トリフェニルスルホニウム全フッ素ブタンスルホン酸塩）

C22H15F9O3S2

144317-44-2

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テトラメチルシロキサンアンモニウム

C16H48N4O4Si

53116-81-7

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2-ナフタノール、6,6'-(9H-フルオレン-9-イリデン)ビス-

C33H22O2

934557-66-1

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4-メチルベンゼンスルホン酸ピリジン

C12H13NO3S

24057-28-1

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P-トルエンスルホン酸シクロヘキシルエステル

C13H18O3S

953-91-3

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9,9-ビス(4-アセチルフェニル)-9H-フルオレン

C29H18

152480-69-8

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ビスフェノールフリル

C25H18O2

3236-71-3

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