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フォトリソグラフィ材料

品名

化学分子式

カス

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1-ナフチルアミノベンゼン

C16H13N

90-30-2

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1-ナフタールアルデヒド

C11H8O

66-77-3

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9,10-ジヒドロアントラセン

C14H12

613-31-0

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9-アントラノール

C15H12O

1468-95-7

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1-ヒドロキシピレン

C16H10O

5315-79-7

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1-ナフタノール

C10H8O

90-15-3

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3-グリシジルエトキシプロピルトリメトキシシラン

C9H20O5Si

2530-83-8

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エチルトリメトキシシラン

C5H14O3Si

5314-55-6

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メチルトリメトキシシラン

C4H12O3Si

1185-55-3

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テトラメトキシシラン

C4H12O4Si

681-84-5

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1-ナフチルトリメトキシシラン

C13H16O3Si

18052-76-1

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フェニルトリエトキシシラン

C12H20O3Si

780-69-8

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スチレンスルホン酸ナトリウム

C8H7NaO3S

2695-37-6

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2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピルメタクリレート

C7H7F5O2

45115-53-5

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4-ビニルピリジン

C7H7N

100-43-6

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2-アクリルアミド基-2-メチルプロパンスルホン酸

C7H13NO4S

15214-89-8

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1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピルメタクリレート

C7H6F6O2

3063-94-3

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2,2,3,4,4,4-ヘキサフルオロブチルメタクリレート

C8H8F6O2

36405-47-7

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1,1,1-トリス(4-ヒドロキシフェニル)エタン

C20H18O3

27955-94-8

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9,9-ビス(4-ヒドロキシフェニル)フルオレン

C25H18O2

3236-71-3

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